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毗鄰國家存儲器基地，規(guī)劃占地面積1104畝，項目一期占地面積約454畝，總建筑面積約85萬平方米，投資約50億元，由國有金融平臺武漢光谷金融控股集團有限公司出資建設，將建設展示中心、實驗樓、中試車間、潔凈室廠房及宿舍樓等。

高標準建設國內(nèi)一流集成電路產(chǎn)業(yè)園，重點建設國家先進存儲產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新中心、集成電路設計中心等一批國家級創(chuàng)新平臺；引進集成電路產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)，推動產(chǎn)業(yè)鏈共同發(fā)展、產(chǎn)業(yè)基地規(guī)模集聚，形成有全球影響力的國家級半導體產(chǎn)業(yè)高地；打造集研發(fā)、生產(chǎn)、展示、投資、金融服務等多元一體的綜合服務平臺，承載落實“一芯驅(qū)動”戰(zhàn)略。